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產(chǎn)品概況上市時間:2020年1月1、雙光室,確保所有分析譜線都獲得分辨率
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產(chǎn)品概況
上市時間:2020年1月
1、雙光室,確保所有分析譜線都獲得分辨率。 SPECTROLAB S 配備兩套完整的光學(xué)系統(tǒng)。一個光室精確測量波長從120到240納米(nm);另一個光室,波長范圍從210到800納米(nm)。 兩個光室都采用的CMOS檢測器,具備恒溫裝置和壓力補償功能 2、等離子發(fā)生器數(shù)字光源和點火板 可靠的新型高能LDMOS等離子發(fā)生器光源,為SPECTROLAB S 輸出穩(wěn)定的火花放電,頻率1000 Hz。結(jié)果:較短的測量時間(例如:分析低合金鋼小于 20 秒)。該系統(tǒng)還允許特定應(yīng)用的火花參數(shù)設(shè)置,以優(yōu)化分析性能。 3、精密氬氣控制系統(tǒng) SPECTROLAB S 采用全新程控流量。軟件根據(jù)分析程序精密設(shè)置氬氣流量。節(jié)約了氬氣消耗。氬氣閥體直接耦合到火花臺,無需管道連接。避免漏氣。 4、火花臺清理間隔較大程度延長 堅固的陶瓷內(nèi)芯避免積塵粘附。流暢的氣路設(shè)計確保了較少的粉塵殘留(使得清理間隔時間延長了8倍);對于大樣品量輸出的全自動光譜儀系統(tǒng)尤為重要。 5、快速讀出系統(tǒng) 斯派克的GigE創(chuàng)新讀出系統(tǒng)確保海量數(shù)據(jù)的極速處理,從而支持**的儀器性能表現(xiàn)。實現(xiàn)了的全光譜范圍譜圖記錄。 6、低檢出限。SPECTROLAB S 采用的 CMOS+T技術(shù),在關(guān)鍵元素的檢測限方面,超越光電倍增管技術(shù)的性能。通過配置參比通道,工作曲線可以較大程度獲得優(yōu)化??梢钥焖俣糠治鰌pm量級的高純金屬或合金中的痕量元素。
產(chǎn)品特點
作為電弧/火花創(chuàng)新技術(shù)的,40多年來,SPECTRO全心投入開發(fā)出的發(fā)射光譜儀。斯派克公司引入CMOS探測器技術(shù),改變了電弧/火花分析技術(shù)的走向及未來。在所有同類分析儀中,SPECTROLAB S所提供分析速度超出想象,元素檢測限低限,同時她也可以提供較長的正常運行時間和非常具有前瞻性的靈活性。技術(shù)參數(shù)
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